实现最佳工艺条件和结果

光发射光谱分析(OES)用于监测等离子产生的光。等离子中的不同物质发射不同特性波长的光。

  • 测量特定波长的光量可对特定物质的量进行相对测量。这种类型的测量主要用来测定两层之间边界处的终点。因此,可利用蚀刻工具的光学终点检测去测定何时蚀刻掉了一层物质。
  • 激光干涉仪可更为精确地控制蚀刻深度,这在多步骤蚀刻工艺中或对蚀刻特点而言可能极为重要。
  • 干涉仪依靠引至样品上的外部光源工作。检测并分析反射光。该情况允许利用干涉仪在给定蚀刻深度的蚀刻处标注终点。
  海洋光学CCD1 Verity SD 1024G
检测器范围 200-850nm 200-800nm
像素 3648 像素 2048 像素
信噪比 300:1 (全信号时) 2000:1 (全信号时)
A/D分辨率 16 位 16 位
暗噪声 50 RMS计数 2 RMS 计数

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