终点检测器是实现最佳工艺条件和结果的重要工具

  • 光发射光谱分析(OES)用于监测等离子产生的光。
  • 等离子中的不同物质发射不同特性波长的光。
  • 蚀刻工具的终点检测要么采用光发射光谱分析,要么采用激光干涉测量。

蚀刻用光学终点检测器

实现最佳工艺条件和结果

光发射光谱分析(OES)用于监测等离子产生的光。等离子中的不同物质发射不同特性波长的光。

  • 测量特定波长的光量可对特定物质的量进行相对测量。这种类型的测量主要用来测定两层之间边界处的终点。因此,可利用蚀刻工具的光学终点检测去测定何时蚀刻掉了一层物质。
  • 激光干涉仪可更为精确地控制蚀刻深度,这在多步骤蚀刻工艺中或对蚀刻特点而言可能极为重要。
  • 干涉仪依靠引至样品上的外部光源工作。检测并分析反射光。该情况允许利用干涉仪在给定蚀刻深度的蚀刻处标注终点。
  海洋光学CCD1 Verity SD 1024G
检测器范围 200-850nm 200-800nm
像素 3648 像素 2048 像素
信噪比 300:1 (全信号时) 2000:1 (全信号时)
A/D分辨率 16 位 16 位
暗噪声 50 RMS计数 2 RMS 计数

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用于沉积的光学终点检测器

测量特定波长的光量可对特定物质的量进行相对测量。这种类型的测量主要用来测定工艺室表面与工艺室清洗期间的沉积物质之间边界处的终点。

用于沉积工具的光学终点检测器

  • 可进行实时工艺室清洗终点检测
  • 提高工具可用性
  • 降低所有权成本(当清洗过程完成时,可精确确定)
  • 降低因清洗过度造成工艺室侵蚀的可能性,有助于延长工艺室使用寿命
  • 可防止清洗过度减少颗粒生成,从而提高工艺出品率
  Ocean Optics CCD1 Verity SD 1024G
Detector Range 200-850nm 200-800nm
Pixels 3648 pixels 1024 x 128 pixels
Signal-to-noise ratio 300:1 (at full signal) 2000:1 (at full signal)
A/D Resolution 16 bit 16 bit
Dark noise 50 RMS counts 2 RMS counts
Resolution 10nm 2nm

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