OmniGIS支持三个内置气源和共用GIS接口的两个清洗载体气体源

OmniGIS系统由用于混合气体的配方模块、能在各个工作周期输送气体的阀门和数字探针位置控制器组成,该气体输送系统可用于高分辨率纳米图案成形工艺,以及原子层沉积等精密工艺。
Finally, the OmniGIS employs user replaceable crucibles that enable source changes in less than 20 minutes with no realignment of the injector system. This enables one OmniGIS to support more than 3 sources and to have rotating “on the shelf” source readiness.
最后,OmniGIS还采用了用户可更换的坩锅,该坩埚可在不到20分钟的时间内完成气源更换,无需重新对准注入系统,这有利于一个OmniGIS支持3个以上气源并让滚动的“备用”气源准备就绪。

 

Features & Benefits

特点和益处

  • 行业领先的气体注入器
  • 单根注入针、单个接口、多个气源
  • 通用的气体源有碳、钨、铂和氧化物、二氟化氙(XeF2)和水
  • 电动注入针定位
     

  • 直观的图形软件
    • 不同用户等级
    • “拖放”式设置配方
    • 单独或混合气源输送
    • 可通过扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束显微镜(FIB)和平版印刷系统进行本地或远程控制
  • 多功能控制器
    • 可独立地通过以太网卡连接到扫描电子显微镜/聚焦离子束显微镜的计算机
    • 精确的流量控制
    • 对现有气体注入器进行附加控制

我们独一无二的优势

  • 对初学者而言,简单易学,对高端研究而言,功能强大
  • 可快速适应许多不同的研究应用
  • 平稳的运动和阀门动作,与操作任务兼容
  • 通过对气体流量和混合进行高级控制,纳米结构分辨率更高
  • 透射电子显微镜(TEM)样品制备选项最大化
  • 可释放聚焦离子束显微镜/扫描电子显微镜上的接口
     

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