OmniGIS支持三个内置气源和共用GIS接口的两个清洗载体气体源

OmniGIS系统由用于混合气体的配方模块、能在各个工作周期输送气体的阀门和数字探针位置控制器组成,该气体输送系统可用于高分辨率纳米图案成形工艺,以及原子层沉积等精密工艺。

最后,OmniGIS还采用了用户可更换的坩锅,该坩埚可在不到20分钟的时间内完成气源更换,无需重新对准注入系统,这有利于一个OmniGIS支持3个以上气源并让滚动的“备用”气源准备就绪。
 

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