150 mm2 的能谱仪比小晶体面积的优势在哪里?
举例为证。加速电压20kV,束流不到2nA时,150 mm2 的能谱仪每秒即可输出200,000的计数。而使用10 mm2 的能谱仪时,需要近20nA下才可达到相同的计数率。

下图显示不同束流下的典型计数率,20kV下分析纯Mn时,探测器检出角30°且距样品45mm。使用大面积能谱仪,无需增加束流即可极大地增大计数率。也就是说在低束流下,保证高空间分辨率及低辐照损伤的同时可以获得足够多的计数。左图显示束流增加对改善图像质量的影响。

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束流对纳米材料分析的影响

当使用晶体面积小的能谱仪,需要高束流来满足足够的计数率,但会损害空间分辨率。超大面积能谱仪X-MaxN 150可以在低束流即高空间分辨率下获得足够多计数,因此可以成功实现纳米材料的检测与分析。

 

 

 

 

 

 


 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

右图:纳米结构在5kV下的X-射线面分布。计数率相同时,150mm2的能谱仪所需束流更低,意味着空间分辨率足够高可以分辨出纳米尺度的变化,且极大地减弱了样品的辐照损伤。相反,10mm2的能谱仪则需要更高的束流,却会严重损害空间分辨率,使得面分布图像模糊不清。

 

 

 

Why size matters (3)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

右图:在0.2 nA, 3 kV下使用150 mm2 X-MaxN 的能谱仪对记忆合金中的纳米结构进行分析。可以观察到FeLa,NiLa及CuLa峰显示出的纳米结构分布差异,最小可以区分出20nm宽度的结构。