The Nanofab- 纳米尺度结构生长系统

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  • 从小尺寸的样品到200mm的晶片都可以处理
  • 可以进行等离子体增强化学气相沉积(PECVD)薄膜生长
  • 合成化合物半导体纳米线用的金属有机(MOCVD)前驱物输送系统
  • 有序阵列生长及薄膜应力控制
  • 出色的温度均匀性、扩展性、灵活控制
  • 可以在高气压、高流速体系进行工艺处理
  • 可选的液态源输送系统


真空进样使样品准备及工艺处理操可以独立操作

Product Features

Nanofab800Agile process tool features

Development opportunities exist to incorporate additional magnetic or electrical fields, to influence the growth of the nanostructures.

  • Controllable growth of nanotubes and nanowires with flexible temperature up to up to 800°C
  • Agile heating and cooling for rapid turnaround
  • PECVD - Standard and high temperature deposition
  • High temperature electrode

电特性

高温能力: 高达 800°C                                

  • 快速周期: 升温速度达 130°C/min
  • 热均匀性 (< ±1%)
  • 寿命长: 抗震材料
  • 可更换的基座
  • 低接地电极
  • 设计简单易操作

热响应

牛津仪器公司的技术的一个关键优势是使用低热量、防震的材料,能够提高功率密度。
使用我们的自行设计的基于PBN板的加热器,加热升温速率高达130 ℃ /分钟,而传统的烧结陶瓷仅有〜 15 ℃ /分钟。

工艺优势

Nanofab系统工艺优势
  • 纳米管及纳米线的可控生长
  • 催化剂的等离子体预处理可改善生长条件
  • 退火温度高达800 °C
  • PECVD大面积薄膜沉积技术制备的薄膜具有非常好的均匀性、高的沉积速率以及薄膜特性(如折射率、应力、导电性及湿法刻蚀速率)可控


 

 
 

相关工艺技术

设备支持

灵活的服务协议

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定制服务合同:选择适合您的选项。

工艺培训

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将在我们的专门培训基地教授工艺培训课程

系统用户维护培训

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设计用于提高系统维护技术,确保您有效地使用您的牛津仪器系统。