Optofab ® 3000 -高品质光学镀膜系统

专门为高品质的光学应用而开发,包括高反射和防反射涂层的Optofab 3000是基于Ionfab 300Plus的架构 -具有与Ionfab 300Plus相同的功能和优点,并附带其它的功能。

  • 该系统装有高速8 "样品座,传送均匀性误差<+/-1%,各层间重复性好。本系统可使用均匀性屏蔽罩,以进一步改善层内均匀性。
  • 通过特制的中凹钼3栅网设计,使用15厘米离子源实现了高沉积速率。 此外,使用辅助源可获得非常好的折射率。
  • Optofab 3000 可使用白光光学监测。对于确保每一层的厚度正确,从而实现在特定的光学特性,这是至关重要的。

衬底处理

单一设备的灵活性
 
  • 从微小部件,到100毫米(4英寸),200毫米 8英寸)晶片均可处理
  • 能夹住任何形状,设计独特的传输托盘
  • 可选择的晶片传送办法
  • 一次性手动载入
  • 具有真空进样室,用于快速载入
  • 批量生产的盒到间装载/卸载
  • 可与其他设备集成,包括牛津仪器的Plasmalab ®等离子刻蚀、沉积和溅射设备, FlexAL ®原子层沉积(ALD)设备
  • 简单的升级选项以添加刻蚀和沉积源

 

工艺控制

可从-90 °到75 ° 倾斜的衬底支架(取决于配置)

  • 可使用‘blazed'光栅
  • 允许侧壁被清除掉或刻蚀
  • 衬底角度控制,提高靶材沉积的均匀性

盘转速

  • 变盘转速使沉积速率可根据具体应用来控制
  • 可选择标准盘和高速盘

 

 

衬底冷却

  • 防止衬底和器件结构/在位的其他材料性能退化
  • 可选择采用He(涡轮泵)或Ar(冷泵)进行晶片背面冷却

 

工艺监控

  • SIMS监测刻蚀终点,用于多种材料的应用
  • 沉积过程监控
    -液晶监控(单或双头)
    -白光光学监控( WLOM )
  • 通过RGA进行反应室气体鉴别,分压控制和检漏,

 

应用

典型的应用和材料:

  • 红外探测器
  • CdHgTe (CMT )刻蚀
  • 氧化钒沉积和刻蚀
  • 金属接触和跟踪刻蚀
  • 铜,镍,铝...
  • 贵金属:金,铂,钯...
  • 衍射光栅
  • SiO2 ‘blazed' '刻蚀
  • 自旋电子元件和的MRAM
  • 激光棒的AR和HR涂层
  • 电信滤波器
  • III - V族光子刻蚀
  • 薄膜磁性硬盘头( TFMH )

 

离子源

  • 领先的离子源和栅网技术
  • 栅网设计独特,以适应具体应用:高均匀性,高速率,低能量
  • 多靶的特定的沉积栅网设计,以有效利用靶材
  • 可达35厘米的广泛的刻蚀源选项
  • 双束配置(刻蚀加沉积源)可以在刻蚀后立刻沉积盖层,而不会使反应室或者晶片暴露在大气中
  • 用刻蚀源作为等离子体基源(IASD)以提高沉积速率

 

Optofab3000 Image Gallery

Simulation of a high performance optical filter

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In-situ monitoring of optical coating deposition

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Multi-layer optical coating design

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