• 通过的等离子体降低生长温度

• 等离子体使得催化剂薄膜形成岛状,而如果没有等离子体,在相同温度下则不能形成。
• 和没有处理,甚至是热处理相比,对催化剂的等离子体处理提供了更密集、更快的生长
• 等离子体提供了有序排列和更大程度上对直径、密度的控制。
• 等离子体生长可以进行选择性区域生长。

技术:

• 平行板反应室
• 喷淋头进气口,温度范围600-800oC
• 无论是否采用等离子体,均可生长碳纳米管
• 等离子体也被用来预清洗种子层和清洗反应室。
• 有序生长速率大于40纳米/分钟
• 随机生长速率大约300纳米/分钟