电感耦合等离子体源

  •  ICP 65适用于最大为2英寸的晶圆
  •  ICP 180适用于最大为100mm的晶圆
  •  ICP 380适用于最大为200mm的晶圆
  •  更小尺寸的晶圆均以适用于以上设备进行刻蚀
  •  ICP刻蚀使用了反应离子束刻蚀(RIE)中的偏压和温控晶圆电极
  •  使用含氟气体的处理工艺

 

 

相关工艺技术