感应耦合等离子源

  •  ICP65适用于最大2英寸晶片
  •  ICP 180适用于最大直径100mm晶片
  •  ICP 380适用于最大直径200mm晶片
  •  每套系统也都可以刻蚀更小尺寸的晶片
  •  采用加偏压的反应离子刻蚀和温度可控的晶片电极进行感应耦合等离子  体刻蚀
  •  基于氩气溅射的工艺