速率> 20微米/小时

  • 均匀性:100mm直径范围内公差+/- 4 %
  • 对光刻胶的选择比大于1:1

MicroPelt Peltie冷却器和MicroPelt 热发生器。 采用微电子技术制造。 衬底是标准的硅/二氧化硅晶片。 采用带ICP380的Plasmalab System 100设备干法刻蚀热电式的碲化铋相关薄膜。

Couresty of Infineon Technologies AG Fraunhofer - IPM Freiburg, www.micropelt.com