Aluminium (Al) Sputtering with excellent step coverage using the PlasmaPro System400

溅射沉积具有优异台阶覆盖度的铝

工艺优势:

处理温度范围宽
低电阻率
高反射率
低表面粗糙度

应用:

金属互连
硬掩模

 

技术:

磁控溅射旋转台