低功率工艺:

沉积速率:大于8纳米/分钟
均匀性:在75mm厚的环面上公差小于± 0.5 %在8英寸衬底范围内公差小于± 3 %

高功率工艺:

沉积速率:大于12纳米/分钟
折射率: 2.468(632纳米)
均匀性:在75mm厚的环面上公差小于± 0.5 %
在8英寸衬底范围内公差小于± 3 %