使用Ionfab300Plus (LC)的HfO2 RIBD技术

  • 预清洁:35cm的源可以对最大8英寸的衬底进行预清洁
  • 沉积气体:Ar、O2
  • 晶圆尺寸最大可以达到200mm
  • 详细请见英文网站

使用Optofab3000进行HfO2反应离子束沉积

  • 沉积气体:Ar、O2
  • 晶圆尺寸最大可以达到200mm
  • 详细请见英文网站