除了热ALD的好处之外,远程等离子体在提高鍍膜方面会有更多前驅物选择

  • 等离子体使低温ALD流程保持低的等离子体损伤
  • 不需要水的前驅,减少清洗时间ALD周期-尤其是在低温情况下
  • 通过改善去除杂质的过程,得到较低的电阻率和更高的密度等高质量鍍膜
  • 通过使用氢等离子体使金属化学变得高效
  • 控制化学计量学/阶段的能力
  • 减少成核延迟
  • 等离子表面处理
  • 等离子体清洗对部分材料来说是可行的