牛津仪器等离子体技术为客户的研究、开发、生产提供一系列高性能、灵活易用的半导体处理工具。我们致力于以下三个领域的研究:

  • 刻蚀    RIE, ICP, DRIE, RIE/PE, Ion Beam
  • 沉积    PECVD, ICP CVD, Nanofab, ALD, PVD, IBD
  • 生长    HVPE, Nanofab

联系我们

  • 销售团队

    400-621-5191

  • 服务支持团队

    400-622-5191

  • 等离子技术

    在线咨询