牛津仪器带您了解更多通过腐蚀射频设备碳化硅制造工艺
2016年10月10日

碳化硅如今已是越来越重要的一种材料,尤其是在高性能氮化镓射频设备使用碳化硅作为衬底的研究领域。使这些设备顺利通过腐蚀碳化硅是至关重要的,牛津仪器为此开发了理想解决方案来高效刻蚀高质量的碳化硅。

考虑到在相同硬件内低损害刻蚀氮化镓的需求,牛津仪器PlasmaPro100 Polaris为您提供独特的基于氮化镓的射频装置等离子体蚀刻加工需求的能力。
 
Mark Dineen博士,牛津仪器等离子技术产品经理,将为您讲解这一创新科技。
 
牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任,为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的等离子设备等;同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐,包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持等。
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