欢迎参加牛津仪器 Asylum Research 与《Materials Today 》共同举办网络讲堂
2016年5月16日

牛津仪器Asylum Research将与《Materials Today》合作举办“不仅仅是形貌,薄膜分析中的AFM技术”网络讲堂。 该网络讲堂将探讨目前在薄膜分析中的最新技术,回顾AFM表征速度,灵敏度以及易用性等方面的进展。届时将会具体讨论表征薄膜电学、机械性能以及功能响应等方面的最近的技术进展,并会涵盖在半导体工业中的存储器设备中的相关应用。该网络讲堂的主要汇报人是“Lark Scientific”的创始人和前NIST的项目领导人-Donna Hurley 博士和IBM的研究员-Kumar Virwani博士。
 
Asylum Research的应用经理Jason li表示说 “AFM广泛的用于纳米尺度的成像和分析并在薄膜和涂层的分析中发挥了非常重要的作用。让人激动的是众多能够超越表面三维形貌分析的表征技术正不断的被开发出来,比如定量测试纳米电学性能和纳米力学性能(存储模量和损耗因子)等。利用代表目前最高技术水平仪器,如Asylum Research 的Cypher 原子力显微镜,能够高分辨且快速的进行扫描,轻松的捕获众多材料的动力学过程。这个非常前沿的网络讲堂将会是学术界和工业界中想要详细了解最新的表征薄膜的AFM技术的科学家们的理想选择。
 
时间:2016年6月2日凌晨三点(北京时间)
 
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图片说明:3维图代表表面形貌,颜色表征针尖和样品间的电流。样品是沉积在含有5%Nb的(001)SrTiO3基底上的(001)Bi(Fe0.5Mn0.5)O3(BFMO)薄膜。该图像是在导电AFM模式下获得,其表明晶粒边界(黄色-白色)通常会具有比微晶内部(紫色)更高的导电率。具有多铁和自旋玻璃特性的BFMO薄膜在新电子设备中具有巨大的潜在应用价值。图像扫描范围1μm,利用MFP-3D 原子力显微镜进行成像,样品由Barcelona大学应用物理和光学部门的薄膜自旋电子结构研究组提供。
 
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