牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在沪举办
2016年3月15日

2016年3月14日,牛津仪器“新型纳米技术先进工艺研讨会”在上海浦东假日酒店举办,本次研讨会邀请了业内专家学者就纳米制造、新工艺技术等方面展开了一系列的学术交流,让在场的参会人员受益匪浅,更深入了解了牛津仪器在纳米技术方面的新产品、新进展和新应用。

牛津仪器新型纳米技术先进工艺研讨会由来自英国总部OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes(下图)上台致开幕词,介绍了牛津仪器的历史、理念和全球业务,着重介绍了纳米设备业务方向、市场战略、OIPTs和MEMS的相关产品及未来趋势,以及提供满足用户需求的解决方案。

牛津仪器OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes

牛津仪器创建于1959年,生产分析仪器、半导体设备、超导磁体、超低温设备等高技术产品,曾13次荣获英国创新女王奖。牛津仪器拥有很多的第一,1961年推出首台磁体;1966年推出世界首台稀释制冷机;1978年首台用于全身核磁共振成像的超导磁体面世;1990年首台X射线探测器荣获R&D 100奖;1997年推出世界首台手持式XRF分析仪;2006年推出首台商业动态核极化设备(DNP);2013年牛津仪器X光管登陆火星...牛津仪器始终关注这中国的发展早在40年前其产品就进入了中国市场,目前牛津仪器在北京、上海、广州和成都设有分公司或办事处,为中国用户提供及时而有效的服务。

牛津仪器二维材料资深科学家Dr.Ravi Sundaram

牛津仪器二维材料资深科学家Dr.Ravi Sundaram上台作《二维材料工艺研讨》的精彩演说。Dr.Ravi Sundaram介绍了几种不同的超越石墨烯的二维材料,当前二维材料正受到越来越多的关注,越来越多的领域需要使用二维材料。而二维材料又该如何操作呢?
 
牛津仪器Nanofab能进行原位催化剂活化和精确的工艺控制,可以实现高效能的纳米材料生长。Nanofab采用化学气相沉积(CVD)工艺,微纳米材料的研究提供机械设备,可应用于原子层沉积和相对较厚的薄膜沉积。
 
牛津仪器OIPT全球运营总监的Dr.David Haynes带来《采用ALD与ALE进行纳米制造》的精彩报告。原子层沉积(ALD)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处,但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。ALE是以单原子层为单位进行的外延生长,可以教精确的控制外延层厚度和异质结界面,是制作超晶格、量子阱等低维结构的化合物薄膜材料较好的生长方法。
 
原子层沉积(ALD)具有高深宽比结构的保形涂层,可微纳米应用提供精确可控的超薄膜。这款开放式进样热ALD可与等离子体进行集成,可现场升级与等离子体进行适配。

牛津仪器MEMS和传感器运营经理Mr.Michael Steel

牛津仪器MEMS和传感器运营经理Mr.Michael Steel带来《提高刻蚀产能新工艺》的精彩报告。Mr.Michael Steel主要介绍了刻蚀新工艺——深硅刻蚀技术,这项技术增强了刻蚀工艺的灵活性。
 
PlasmaPro 100 深硅刻蚀专为HBLED材料苛刻的化学要求而设计,能在最大直径为200mm的晶圆上获得均匀、快速的蚀刻速率。配置的专用的静电夹还可以夹持蓝宝石、蓝宝石上的GaN和硅,具备主动冷却电极可在蚀刻过程中维持样本温度不变、高功率ICP源可产生高密度的等离子体、磁隔离装置可用于增强离子控制和均匀度、高导电的泵送系统等特点。
 
最后,Dr.David Haynes又为参会人员带来《PECVD新技术》的精彩报告,报告介绍了感应耦合等离子体-化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、物理气相沉积技术等。
 
牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任,为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的等离子体设备、原子层沉积设备等;同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐,包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持等。
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