牛津仪器“原子层沉积在微机电MEMS&纳米机电NEMS中的应用” 网络讲座将于7月2日举行
2014年6月6日

原子层沉积方法具有生长的可控性和独特性,可用于生长各种具备复杂结构的薄膜。目前MEMS和NEMS的应用发展日新月异,这个网络讲座将讨论ALD方面的的重要知识以及如何将ALD应用于MEMS。

机械特性对MEMS非常重要,比如应力等,这些问题将在热和等离子源原子层沉积中进行讨论。同时,将演示和讨论几个在文献中提到过的“关于如何将ALD薄膜应用于MEMS”的案例。

讲座主讲人为牛津仪器的ALD技术销售专家Dr.Harm Knoops。加入牛津仪器之前,Harm 在荷兰埃因霍芬理工大学从事原子层沉积的基础和应用研究。

牛津仪器等离子体部业务总监Michelle Bourke 如此评价:“我们的技术团队多年来始终处于ALD和MEMS技术、工艺和系统研究的前沿,因此能够很好地理解原子层沉积在MEMS设备研发和生产中应用的潜在市场。此次网络讲座将让您更深入地了解ALD技术的最新应用。

点击此处注册:http://www.oxford-instruments.com/events/2014/july/webinar-with-mig-use-of-ald-for-mems-and-nems