“采用ALD原子层沉积技术改变材料性能”-iMicronews采访牛津仪器ALD原子沉积技术专家
2014年1月20日

原子层沉积技术长期以来一直用于生产超薄膜,实际上原子层面的控制还可以提高沉积技术能力,同时改变薄膜材料的性能。

牛津仪器等离子体增强原子沉积可以通过在衬底基板施加偏压来进一步增强性能。该项新技术可以在沉积过程中,通过对晶相施压,精确地调整材料性能。除了在集成电路中大范围应用之外,该项技术还可应用于微机电、LED、电力电子。

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