牛津仪器赢得上海技术物理研究所刻蚀系统订单
2013年9月18日

作为半导体研究领域领先的刻蚀和沉积设备供应商,牛津仪器等离子部近期从行业内享有盛誉的中科院上海技术物理研究所获得一台PlasmaPro 100刻蚀设备订单。中科院上海技术物理研究将采用这套先进的等离子刻蚀设备作半导体研究。

中科院上海技术物理研究所徐鹤亮先生评价道:我所是牛津仪器的老用户,在上世纪80年代就开始使用牛津仪器的PECVD、RIE设备,主要进行非金属薄膜的制备,用于光敏器件的表面增透、钝化以及多层金属布线的隔离,取得了良好的效果。

最近购买的ICP100系列刻蚀设备应用于厚介质刻蚀工艺,对常规CMOS工艺制备的焦平面成像器件进行光谱优化,已取得了较好的结果。

我们使用牛津仪器设备的历史已将近30年,牛津仪器严谨的工作态度,对客户需求的及时响应,完善的售后技术支持体系,庞大的工艺数据库都给我们留下了深刻的印象,并得到了所内广大科研人员的认可。

PlasmaPro100 的处理模块建立在200毫米平台上,具备单晶圆或多晶圆处理能力。此产品具有良好的均匀性,并在应用范围内提供高产能程序。”牛津仪器等离子部亚太区业务经理Jeffery Seah谈到,“在迅速增长的中国市场,我们非常荣幸能够从上海物理所这样卓越的科研中心赢得订单。我们独家拥有6000多个工艺参数和全球服务网络,可对这套先进的刻蚀系统提供支持,因此是科研领域最佳的选择。”

对于微纳米结构的可控和可重复工程,牛津仪器等离子技术可以提供灵活的、可配置工艺设备。还可以为纳米尺寸的特性蚀刻,nanolayer沉积及可控纳米结构生长提供解决方案。

解决方案的核心技术包括等离子体增强沉积和蚀刻、离子束沉积和蚀刻、原子层沉积、深硅蚀刻和物理气相沉积。既可以作为独立腔体模块,也可以多腔配置,具有良好的均匀性,并在应用范围内提供高产能程序。

牛津仪器赢得上海技术物理研究所刻蚀系统订单

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