牛津仪器将参加CHInano
2013年9月18日

牛津仪器等离子部作为全球领先的批量和单晶圆等离子设备供应商,在生产和研究市场具有30多年经验,我们拥有大量生产设备用户,并可提供多种微机电应用的等离子工艺解决方案。

对于微机电、NEMS、微纳米制造所需的微纳米工程材料,牛津仪器等离子部的刻蚀、沉积和生长设备可以提供多种工艺解决方案。其应用包括在微纳米技术方面的物理传感器、制动器、微流体、光子学和其他新兴应用。

我们的产品包括用于研发的紧凑型单机设备,带自动传送腔体及盒式真空载片系统的量产型设备,涵盖了深硅刻蚀、PECVD、ICP CVD、ALD、溅射和离子束刻蚀和沉积技术。

我们的展位号是#A01,欢迎您的光临。

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牛津仪器等离子部微机电专家将在CHInano演讲:纳米刻蚀和深硅刻蚀的前沿技术

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牛津仪器等离子部集团业务总监Michelle Bourke在微机电设备和工艺开发方面具备多年经验,对该市场有着非常深入的了解。

微机电已被越来越多地应用在商业和工业领域。此次演讲将着重阐述深硅刻蚀的两项先进技术,称之为“Bosch”工艺和低温冷却工艺。我们将公布这两项技术的最新结果,同时会关注于纳米硅刻蚀日趋增长的重要性,这项技术使持续使用低温冷却工艺成为可能。此次演讲还将简短介绍原子层沉积技术和其在微纳米芯片中的重要性。

本次演讲将在9月26日9:20-9:45进行

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