牛津仪器赞助并参加2013年中国国际纳米技术产业发展论坛暨纳米技术成果展
2013年10月24日

2013年中国国际纳米技术产业发展论坛暨纳米技术成果展于9月24-27日在苏州国际博览中心举行,迈入第四年的中国国际纳米技术产业发展论坛暨纳米技术成果展提供了一次发掘纳米技术新商机的前所未有的契机。今年的会议及展览致力于聚焦应用于微纳米制造、材料、生物技术及新能源、绿色技术领域的纳米技术。

牛津仪器做为赞助商参加了此次展会,宣传企业品牌的同时,也展示了我们在刻蚀及镀膜沉积领域为客户提供的各种解决方案。等离子产品业务集团总监-- Michelle Bourke同期发表了演讲,演讲题目为:Leading Techniques for the Nano-scale Etching and Deep Etching of Silicon。通过学术交流,在论坛上展示了我们在这个领域的先进理论及技术,并推广了新款深硅刻蚀”Estrelas”在MEMS方面的最新工艺,如使用F-based气体在Bosch,cyro及混合工艺中的应用效果。并阐述了设备应用能实现的高选择比和高刻蚀速率等方面各项领先的技术参数。

牛津仪器赞助并参加2013年中国国际纳米技术产业发展论坛暨纳米技术成果展

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