牛津仪器推出用于HBLED企业的新型最大批量刻蚀设备
2013年3月26日

牛津仪器等离子部刚刚发布了批量刻蚀的新技术——新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蚀设备,该设备可以为PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蚀提供解决方案,有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。本周,该款新设备将于上海LED China展会上发布,届时牛津仪器HBLED产品经理Mark Dineen博士将向LED China与会代表作深入介绍。

牛津仪器HBLED产品经理Mark Dineen博士谈到,“我们在HBLED产业中已具备15年以上的供应设备经验,PlasmaPro1000 Astrea是我们旗舰型批量刻蚀设备。HBLED制造业要求高产量、高良率、高性能和低使用者成本,我们的PlasmaPro1000 Astrea大批量刻蚀设备完全符合以上所有要求。”

该设备可以批量刻蚀55 x 2” 到 3 x 8”的晶片,设备独特的设计符合了HBLED材料严苛的化学要求。PlasmaPro1000 Astrea损耗低、产量高,以保证客户芯片的最大光输出。

该设备的高配置体现在,处理腔可作为独立模块或集群配置,也可升级为四面集群设备以支持三个生产模块。

为确保该设备高稼动率性和易维护性,它的主要特性和优势包括:

  • 行业领先,可处理直径为690mm和高均匀性要求的等离子源。
  • 490mm的电极,可大批量处理55x2”, 14x4”, 7x6” 到3x8”尺寸的晶片
  • 高电导泵系统
  • 双进气口使制程调整更顺畅
  • 为晶片冷却提供大夹具
  • Z字型的移动方式确保晶片极佳的均匀性
  • 硬件稳定和易于维护,确保最优正常运行时间

牛津仪器等离子部总经理Dan Ayres先生谈道,“这套先进的设备正是为HBLED生产商目前的需求而开发,他们不仅需要最前沿的技术,也需要像我们这样可提供最完美客户服务支持的供应商。”

作为行业领先的等离子刻蚀和沉积设备供应商,牛津仪器不断地通过改善和升级系统为客户提供最佳设备。我们成立已有25年以上的历史,期间通过不断完善独家资料库,目前已拥有6000多个工艺配方,可以为客户生产优质产品提供全面保障。

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