查尔姆斯理工大学选择牛津仪器设备用于纳米技术研究
2012年11月29日

等离子体刻蚀和沉积体系的重要制造商-牛津仪器荣幸的宣布:查尔姆斯理工大学选择了牛津仪器的FlexAL ALD设备,安装在先进的洁净室。该FlexAL ALD设备具备一系列新型的灵活性:纳米结构工程方面的性能,远程驱动等离子ALD程序和单热原子层沉积系统。

原子层沉积是一种真正的纳米技术,精确的控制几个纳米厚度的超薄薄膜沉积在预定的位置。原子层沉积的两个特性(自限性生长和高保形涂层)给半导体工程、MEMST和其他带纳米技术应用来许多好处。FlexAL设备提供了最大程度的灵活性和等离子ALD的前兆低温程序。远程等离子可降低维护的损害。自制驱动软件接口具有可控性和可重复性。

瑞典查尔姆斯理工大学纳米设备实验室的工艺设备专家Mats Hagberg博士评价道,我们已看到纳米研究对于非常薄和精确厚度的高质量薄膜的需求增长,引进原子层沉积设备让我们有可能将太赫兹、微波和量子元件的研究提高到一个新的水平。FlexAL是目前原子层沉积市场中最匹配我们技术规范的设备。

牛津仪器的ALD产品经理Chris Hodson说,对于许多新型应用领域的研发来说,FlexAL ALD设备是一个理想的平台,能够灵活的处理各种不同材料和各基板。我们优秀的应用程序团队和全球维修服确保我们的客户在各方面都能得到支持,保证牛津仪器设备正常运行时间和可靠性的最大化。
 

查尔姆斯理工大学选择牛津仪器设备用于纳米技术研究