新一代PlasmaPro® 100 system系统
2012年7月19日

 

牛津仪器推出PlasmaPro 100系统,为客户提供了新一代性能超群的刻蚀和沉积设备。该系统包括微电机系统、HBLED、半导体电子、失效分析及光伏等很多非常符合市场需求的关键应用。客户不仅需要技术创新,同时更需要一流的技术支持,牛津仪器开发的这套先进的系统完全符合客户的需求。

牛津仪器作为世界领先的等离子刻蚀和沉积系统供应商,不断致力于改善和开发该系统,以便为客户提供提供最好的设备。

新系统的作用:

• 伴随高品质的二氧化硅和氮化硅沉积速率,PECVD硬件进一步演变,相应的减少清机时间成本。

• 新一代Cobra ICP系统改善了刻蚀率和线宽操控功能。

• 具有业界公认的机械手功能,巩固了牛津仪器在“即插即用”的硬件和优化程序方面的领先地位。

• 增强了控制系统的基础设施,具有更好的分析、可靠性和可维护性。

PlasmaPro 100是一个高配置的系统,既可以作为独立腔体模块,也可以多腔配置。

“正常运行时间超过90%,这个数据证明了我们设备的技术和自动化在业内处于领先地位,”高级产品经理Ian McKinlay谈到,“此新产品做到真正的改进,具有良好的均匀性,并在应用范围内提供高产能程序。我们独家拥有6000多个工艺参数。凭借此项优势,25年来牛津仪器在业界一直处于领先地位,同时也确保了我们能将优异的产品提供给客户。”

新一代PlasmaPro® 100 system系统