格拉斯哥大学采用等离子刻蚀系统
2011年7月21日

英国格拉斯哥大学的詹姆斯•瓦特纳米技术中心在其已安装的牛津仪器公司刻蚀和沉积设备基础上添加了一台 PlasmaPro® System100 ICP 等离子刻蚀系统。 PlasmaPro System100 ICP 适用于多种用途下的化合物半导体材料刻蚀,如光电子、毫米波&太赫兹技术、生物工程、生物技术、芯片实验室技术、能量收集技术和太阳能光伏技术。

牛津仪器公司的销售和市场部总监 Mark Vosloo评价说,“牛津仪器公司主要集中开发前沿研发设备, 而这份牛津仪器公司设备系统增补订单强化了我们为格拉斯哥大学提供研究设备选择的承诺。”

“多年来,我们与牛津仪器公司密切合作,将他们的刻蚀和沉积系统成功地用于我们的研究”,詹姆斯•瓦特纳米技术中心主任和半导体仪器教授,Douglas Paul教授说,“我们最近发出了一份增补牛津仪器公司系统的订单,因为我们对这些工具的灵活高效具有深刻印象。 我们多年来一直使用他们的工具,在我们要推出5nm以下特性尺寸技术时,将继续使用这些工具来开发新的用于纳米制造的刻蚀和沉积工艺。 而且,为了尽可能扩大我们的应用范围并尽可能利用投资,设备的维护至关重要,而我们对于牛津仪器公司提供的一贯高品质支持服务极为满意”。

牛津仪器公司致力于通过科学技术实施负责任的研发,并深化对世界需求的理解,利用创新将科学智慧融入到世界级产品中来支持研究和工业发展。