离子束蚀刻白皮书
2011年12月8日

作为世界领先的离子束技术和系统制造商,牛津仪器等离子部的应用和技术团队会定期发布技术白皮书,现在最新版的离子束蚀刻白皮书已经面世。

本期白皮书由公司的离子束应用技术资深专家Sebastien Pochon博士和Dave Pearson博士执笔,全面介绍了离子束蚀刻技术并阐述了其在蚀刻工艺中的主要应用和优势(例如与等离子蚀刻对比)。白皮书首先综述了离子束最初是如何产生的,而后又介绍并讨论了离子束技术的工艺应用。

请联系牛津仪器 process.news@oxinst.com获取白皮书

牛津仪器等离子技术部应用团队经理Robert Gunn这样评价道:“我们资深的应用工程师团队和技术人员不断地在他们专业领域探索研究,以求为客户提供最好的离子束和等离子系统;提供更多像这本白皮书一样的技术资料,此外我们还拥有数量超过6000份的工艺资料库”

作为世界领先的离子束技术和系统制造商,我们提供的离子束工具包括Ionfab300Plus,该设备有充分的灵活性进行刻蚀和/或沉积,并实现系统利用率最大化;Ionfab500Plus专为高品质光学薄膜设计;Optofab3000特别为高品质光学应用而开发。