牛津仪器2011微纳制备工艺技术研讨会在京举行
2011年3月16日

2011年3月11日-12日,牛津仪器2011微纳制备工艺技术研讨会暨英国牛津仪器等离子技术公司客户会在北京西郊宾馆举行。此次研讨会以"纳米电子:生长、沉积与蚀刻"为主题,由英国牛津仪器离子技术公司主办,中科院半导体所协办,吸引了110余名来自半导体领域的用户,仪器信息网作为独家特邀媒体参加了本次研讨会。

牛津仪器等离子技术公司全球销售总监Mark Voslo先生首先致欢迎辞并对牛津仪器等离子技术进行了简要介绍,他说到:牛津仪器等离子技术公司是英国牛津仪器公司的子公司,是微纳制备仪器的生产商,公司提供各类刻蚀、沉积和生长系统,可以为材料的微米、纳米级工程提供工艺方法,产品广泛应用于半导体、光电子、MEMS和微流体、高质量光学涂层及其他多种微纳技术领域。本次研讨会是英国牛津仪器等离子技术公司在中国大陆举办的首场研讨会,未来我们还将联合重点研究所及大学举办更多的研讨会,促进公司与用户之间的交流。