新一代HBLED批量生产设备
2010年10月19日

牛津等离子部生产出PlasmaProTM NGP®1000 HBLED等离子体刻蚀和沉积设备,为HBLED制造业带来极大的好处。业界领先的大规模生产能力生产从61 x 2"到 7 x 6"尺寸的晶片以高品质的设备性能和产量相结合,意味着牛津仪器能够为客户提供一种特殊的HBLED生产。

NGP1000是针对提高吞吐量而专门设计的,最大限度地提高正常运行时间并减少了通过可靠硬件易用性服务的总成本。该NGP1000平台进行了优化批量生产,具有标准真空负荷锁,开路负载和四面群集选项都可用。

牛津仪器等离子部销售总监Mark Vosloo先生提到从电视到普通照明都是高亮度LED(,高亮度发光二极管)现在是我们生活中不可或缺的部分,为越来越多的背光照明应用提供解决方案。工业无可非议地需要大规模吞吐量、提高品质和降低总成本,NGP1000恰好满足这些要求.

在高产量的等离子设备产品市场上,牛津仪器等离子技术作为世界领先级的供应商已超过15年的历史,拥有广泛的HBLED生产系统的安装基础。随着行业的不断发展,我们有技术和专业知识,提供最先进的解决方案给我们的客户。"

该等离子体处理系统 系统是专为二氧化硅和氮化硅层的沉积,并采用了大面积电极和优化喷头设计,可允许多达61 x 2", 15 x 4"或7 x 6"单一负载。该等离子体蚀刻系统,为氮化镓,磷化铝镓铟和蓝宝石蚀刻设计,提供了批量达55 x 2", 13 x 4" 或5 x 6",产生产量领先的晶片。

优秀的大面积均匀性提供了新推出的60MHz ViperTM等离子体源。这种创新的源等离子体的密度达到相当的ICP来源,保持高蚀刻率和低损伤的好处。

以我们在最小的规模内分析和处理问题的能力, 这一最新系统的开发进一步证明了牛津仪器公司的目标是成为工业和研究市场新一代工具和系统的领先供应商
该公司利用创新成为世界级的产品智能科学的研究和工业的支持,以解决21世纪的巨大挑战。