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由中国科学技术协会和深圳市科技创新委员会主办,清华大学深圳研究生院和清华-伯克利深圳学院共同承办的2017深圳国际石墨烯高峰论坛于2017年4月9日—12日在清华大学深圳研究生院召开。

牛津仪器作为HBLED制造业中主要的前沿技术设备供应商,自创立之初就在该行业中扮演着重要角色。目前本公司设备用于UV LEDs的推广,在水净化系统中得以应用, 为偏远地区带去安全的饮用水。

自1988年首次在上海举办以来,SEMICON China已成为中国首要的半导体行业盛事之一,囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商。SEMICON China...

武汉光安伦光电技术有限公司刘志锋先生说道:“牛津仪器设备性能良好,操作简单。在刻蚀速率不一样的情况下仍能表现稳定,刻蚀深度与设置情况基本一致。并且,使用牛津仪器等离子设备刻蚀出的聚合物几乎没有。”

对射频器件来说,平稳快速的碳化硅背部刻蚀对高性能、高性价比的半导体来说是至关重要的。正如氮化镓高功率射频器件市场,牛津仪器提供了一种易于制造深孔刻蚀的工艺。牛津仪器等离子技术市场经理Mark Dineen博士称在《复合半导体》刊物中就此技术做出阐述。

仪器信息网讯 2016年11月17日,由牛津仪器等离子技术部和中山大学共同举办的“牛津仪器-中山大学用户学术交流研讨会”在名校环抱的广州南国会国际会议中心召开。近80名来自中山大学、华南理工大学等华南地区高校的用户专家代表及牛津仪器等离子技术部高层、应用专家参加了此次研讨会。

日前,第三届国际ALD应用会议及2016中国ALD大会在美丽的古城苏州落下帷幕。来自世界各地的技术专家们共聚一堂,交流各自实验结果与心得。如今,原子层沉积技术已广泛应用于许多领域,例如微电子,光电子,光学薄膜,纳米功能材料,微机电/纳米电磁系统,能量存储,生物技术,催化技术等等。这归功于原子层沉积技术一些独特的优势,例如纳米级厚度的精确控制,以及相对较...

碳化硅如今已是越来越重要的一种材料,尤其是在高性能氮化镓射频设备使用碳化硅作为衬底的研究领域。使这些设备顺利通过腐蚀碳化硅是至关重要的,牛津仪器为此开发了理想解决方案来高效刻蚀高质量的碳化硅。

第三十三届国际半导体物理大会(ICPS2016)将于北京召开。国际半导体物理大会是半导体物理领域内极高水平的学术会议,具有重大国际影响力。会议内容包括半导体物理研究的所有分支,如半导体的结构、电学、磁学、光学和输运性质及其它当前半导体物理领域的最前沿研究内容。 牛津仪器将现场展示无液氦光学恒温器样机,且有多名技术专家在现场恭候您的光临与交流。

全球领先的等离子刻蚀和沉积系统制造商牛津仪器等离子部,近期赢得了南京邮电大学多套用于硅和三五族刻蚀的等离子刻蚀系统。这些可高度灵活配置的PlasmaPro 100设备可进行广泛的工艺处理,非常适用于南京邮电大学所从事的纳米研究。PlasmaPro...

作为全球领先的工艺解决方案的提供商,牛津仪器近日发布了采用高性能纳米级生长系统Nanofab 来生长二硫化钼的工艺。单层二硫化钼是一种直接带隙半导体,被广泛应用于光电学,例如:发光二极管,太阳能光伏,光电探测器,以及生物传感器,而多层二硫化钼是一种引领未来趋势的非直接带隙半导体的数字电子技术。

2016年3月15日,半导体技术大会(SEMICON China)在上海新国际博览中心开幕,牛津仪器在展会上展示了纳米制造分析工具解决方案。